PS-67焦铜

PS-67焦铜

PSL-67焦磷酸銅工藝

 

Copper Pyrophosphate是經有效改良之焦磷酸銅電鍍法,其突出之性能如下:

1.      鍍層完全光亮,包括隱蔽位置;

2.      具高度填平力;

3.      超卓覆蓋力;

一、優點

在所有鍍銅運用上,其優點多於一般酸性銅及氰化銅電鍍法:

鋅合金鑄壓件

因鍍液鹼性溫和,故對輕金屬不會有化學侵蝕,超卓覆蓋力可確保隱蔽位置亦能有足夠鍍層,在鍍鎳及鍍鉻時可保護底層,減少鋅溶於鎳/鉻鍍液裏。

鋼鐵衝壓

其優點爲具高度填平力及鍍銅後可減少或免除鍍前所需之磨光。

ABS塑膠鑄壓件

高度填平力,全光亮性及超卓覆蓋力可確保隱蔽位置亦能有足夠厚度及光亮。

應用在工程

可用作鋼鐵之炭化處理及氮化處理之分隔媒介;因鍍層排列緊密,故厚度能適當地減少。

印刷線路板

高度填平力可使穿孔鍍層厚度平均。

電鑄

可鍍上任何厚度而不會形成瘤狀,節省機械加工處理,鍍層具高度強度。

 

二、鍍液成份

 

 

 

開缸

範圍(每公升)

適中(每公升)

焦磷酸銅(含水)

70-80

75

純銅濃度

20-28

24

焦磷酸鉀(無水)

200-300

250

氨水(密度0.880

3.20-3.90

3.75毫升

開缸劑PSL-66

2-3毫升

3毫升

補充光澤劑PSL-67

0.2-0.3毫升

0.3毫升

酸鹼度

8.6-9.0

1.開缸劑PSL-66用於開缸及轉換其他焦磷酸銅爲Copper Pyrophosphate電鍍法。

2.補充光澤劑PSL-67是唯一光亮補充劑。

三、光亮劑之控制

1.要保持鍍層光亮,每日應補充光亮劑一次或多次,每日所需之總補充量要視乎工作多少,以最低消耗量而能保持鍍液操作良好,約每1000安培小時補充170毫升光亮劑。

2.補充光澤劑PSL-67需最少稀釋十倍才可加入鍍槽,開缸劑PSL-66不需稀釋。

四、操作細則

陰極電流密度:

高至60安培/平方尺視乎鍍件之形狀

陽極電流密度:

15-30安培/平方尺

陰極效率:

100%

電壓:

8V整流器適用於挂鍍

溫度:

50-55

鍍率:

26分鐘可鍍0.01寸,40安培/平方尺

攪拌:

打氣(最適合)或陰極搖擺均可

過濾:

連續過濾

                                                                         详情请致电或于客户中心留言0755-27510850

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